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簡要描述:Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學(xué)材料Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻中的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學(xué)器件中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF 2的光學(xué)特性可實(shí)現(xiàn)各種高級應(yīng)用。
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Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學(xué)材料
CaF 2用于紫外/可見光/紅外應(yīng)用的光學(xué)材料
Hellma Materials CaF 2 多年來一直被用作半導(dǎo)體生產(chǎn)微光刻中的光學(xué)關(guān)鍵材料。CaF 2 被確立為投影和照明光學(xué)器件中準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件的行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)材料。CaF 2的光學(xué)特性可實(shí)現(xiàn)各種高級應(yīng)用。
應(yīng)用領(lǐng)域
由于其好的光學(xué)質(zhì)量以及在紫外、可見光和紅外光譜范圍內(nèi)出色的透射率
Hellma Materials CaF 2 可用于多種應(yīng)用:
紅外光學(xué)器件
天文儀器光學(xué)
天基光學(xué)
顯微鏡光學(xué)器件
光譜光學(xué)
紫外光學(xué)
激光窗
準(zhǔn)分子激光光學(xué)
微光刻光學(xué)
氟化鈣單晶由高純度原材料生長而成,是 248 和 193 nm 微光刻技術(shù)中照明和投影光學(xué)所需的材料。Hellma Materials 的專業(yè)知識允許制造直徑高達(dá) 440 毫米、厚度超過 100 毫米且最高厚度的 CaF 毛坯。傳輸波長低至 157 nm。
主要質(zhì)量特性包括:
優(yōu)異的紫外線透射率
高激光耐久性
低應(yīng)力雙折射
高折射率均勻性
優(yōu)點(diǎn)
Hellma Materials 的Lithotec ® CaF 2具有奇特的光學(xué)特性:
從深紫外到紅外(130nm 到 8μm)的高寬帶透射率
低折射率(n d = 1.43384)
低光譜色散 (v d = 95.23)
準(zhǔn)分子激光光學(xué)元件(157nm、193nm、248nm)具有出色的激光耐久性
合格的抗高能粒子和輻射能力
直徑可達(dá) 420 毫米
CaF 具有高的激光耐久性,使其成為光刻準(zhǔn)分子激光光學(xué)器件、光束傳輸以及各種其他應(yīng)用中所有準(zhǔn)分子波長的首要選擇材料。
合成氟化鈣晶體完善了從 VUV 到 IR 的光學(xué)材料應(yīng)用范圍,在 130 nm 到 9 pm 范圍內(nèi)具有非常好的透射率。
氟化鈣色校正光學(xué)系統(tǒng)在天文學(xué)、攝影、HDTV 變焦鏡頭中也能實(shí)現(xiàn)光學(xué)性能的優(yōu)勢。如在顯微鏡中,進(jìn)一步的應(yīng)用是傳感器(尤其是紅外光譜)、光譜儀和醫(yī)用激光器。
Hellma Materials 提供具有不同晶體取向 [<111>、<100>、隨機(jī)或其他要求] 的 CaF、組件和毛坯,以及不同的表面質(zhì)量(原始、切割研磨或拋光),具體取決于個人要求。
Hellma CaF 2氟化鈣用于紫外的光學(xué)材料